当社は半導体製造工場向けに、装置設備の精密部品再生洗浄サービスを
ワンストップで提供しております。
フェローテックグループで培ってきた半導体製造装置部品や液晶製造の経験やノウハウをフルに活用し、多様化・個別化するニーズにお応えします。
また、フェローテックグループの製品およびサービスは、半導体製造分野のあらゆるお困りごとを解決できますので、グループの総合力を活用し、精密部品再生洗浄を基盤とする付加サービスの強化も目指します。
お客様の工場稼働を支え、さらなる発展の一助となるよう努めてまいりますのでどうぞ気軽にご相談くださいますようお願い申し上げます。
代表取締役社長 賀 賢漢
私たちの強み
豊富な経験と実績で培った技術力
私たちは中国において長年にわたり、半導体製造装置部品の精密部品再生洗浄、コーティング膜処理および分析技術の開発に取り組み、豊富な経験と高度な技術力を培ってまいりました。
これらの技術力は、世界有数の半導体製造装置メーカーやデバイスメーカー、ファウンドリとの数多くの取引実績により、確かな信頼をいただいています。
品質へのこだわり
優れた品質の提供を理念とし、強固な品質管理体制を構築しています。MES（製造実行システム）の導入により、お客様からお預かりした部品情報を一元管理し、トレーサビリティ（追跡可能性）を確保しています。さらに、豊富な現場経験を持つ常駐スタッフが迅速かつ的確に対応することで、安定した品質を保証いたします。
多様な製品と世界展開によるグループ総合力
フェローテックグループは世界中のお客様に、石英、セラミックス、シリコンパーツ、CVD-SiCなどの高品質・高精度な製品を製造、供給しています。精密部品再生洗浄のみならず、グループ一丸となってお客様のさまざまな課題をワンストップで解決いたします。
精密部品再生洗浄
当社の精密部品再生洗浄は、装置部品の寿命を延ばし交換頻度を低減することで、お客様のコスト削減に貢献します。さらに、パーティクルを低減することで、デバイスや装置稼働の安定性向上に寄与します。また、交差汚染を防ぐため、対象の基材やプロセスによって洗浄ラインを分離しています。
| 洗浄・再生技術 |
10～３nm高精度洗浄 28～14nm高精度洗浄 被膜・堆積物除去 プラズマ溶射 アーク溶射 |
| 認証・計測技術 （オプション） |
0.1, 0.3, 0.5LPC計測 SPCデータ監視・分析 |
PVD装置部品再生洗浄
独自の被膜および堆積物除去技術と表面コーティング技術により、部品寿命の延長とチャンバー内粒子の低減を実現しています。
| 被膜 |
アルミニウム チタン タンタル 窒化チタン |
| 基材 |
アルミニウム アルミナ 石英 ステンレス |
CVD装置部品再生洗浄
フェイスプレートやシャワーヘッドの面板孔径を維持し、セラミックス部品およびアルミニウム部品の表面粗さを最適化することで長寿命化とプロセスの安定化に貢献します。
| 被膜 | 酸化イットリウム |
| 基材 |
アルミナ セラミックス |
エッチング装置部品再生洗浄
オートポリッシャーやY₂O₃ APSコーティングを用いて、部品寿命の延長とチャンバー内粒子の低減を実現しています。また、C-Scanによる検査や３D測定、石英フレームのポリッシュなどを組み合わせることで、精密かつ安定したプロセスをサポートします。
| エッチング種別 |
ポリシリコンエッチング シリコンエッチング ハードマスクエッチング |
| 被膜 |
窒化シリコン 酸化シリコン 酸窒化シリコン 酸化イットリウム 酸化アルミニウム 酸化ジルコニウム 窒化チタン タングステン |
| 基材 |
アルミニウム 陽極酸化アルミニウム 石英 シリコン 炭化シリコン |
プラズマ溶射
基材表面に対して耐摩耗性、耐食性、耐高温酸化性、電気絶縁性、断熱性、放射線遮蔽性、低摩擦性、密封性などの機能を付加します。直流電源で駆動されるプラズマアークを熱源とし、粉末材料を加熱して溶融または半溶融状態にしたうえで、前処理済みのワーク表面に高速噴射し、密着性の高い皮膜層を形成します。
| 粉末 | Y₂O₃ |
| 孔隙率 （平均） | 3.3% |
| 対腐食（HCI 5%溶液） | 3~3.5H |
| 硬度 （HV） | >450 |
| 対電圧 （V/mil） | >500 |
| アルミ結合力（Mpa） | >12 |
アーク溶射
ダブルワイヤーアーク溶射機を用いて、コーティング材料となる２本ワイヤ電極間に発生させたアークを熱源として電極の先端を加熱、溶解します。溶融した材料を圧縮ガスで微粒化、前処理を施した基材表面に高速噴射することでコーティング層を形成します。
| ワイヤ | アルミニウム |
洗浄工程フォトギャラリー
会社概要
- 商号
- フェローテックテクノロジーデベロップメントジャパン株式会社
（英文表記）Ferrotec (Japan) Technology Development Co.,Ltd.
- 設立
- 2023年(令和五年)10月3日
- 資本金
- 490百万円
- 事業内容
- 半導体製造装置及びこれらの部品等の精密部品再生洗浄サービス事業等
- 代表者
- 代表取締役社長 賀 賢漢
- 所在地
- 〒869-1236
熊本県菊池郡大津町杉水字2985-1
TEL 096-237-8081 FAX 096-237-8085
お車でお越しの場合：九州自動車道 「熊本IC」より 約25分
公共交通機関でお越しの場合：豊肥本線「肥後大津駅」よりタクシーで 約10分
